Effects of thermal annealing on the structural properties of sputtered W-Si-N diffusion barriers / Vomiero, A; E., BOSCOLO MARCHI; S., Frabboni; A., Quaranta; G., DELLA MEA; G., Mariotto; L., Felisari; M., Butturi. - In: MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING. - ISSN 1369-8001. - 7(2004), pp. 325-330.
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 2004 |
Titolo: | Effects of thermal annealing on the structural properties of sputtered W-Si-N diffusion barriers |
Rivista: | MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING |
Volume: | 7 |
Appare nelle tipologie: | 2.1 Articolo su rivista |
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